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并且對這些難清洗部位的清洗作用與用氟利昂清洗的作用類似甚至更好。4·整個清洗工藝流程在幾分鐘內(nèi)即可完結(jié),無錫高附著力聚酯鋁箔公司因而具有產(chǎn)率高的特點。5等離子清洗需求控制的真空度約在 Pa,這種真空度在工廠實踐出產(chǎn)中很簡單完結(jié)。這種裝置的設(shè)備本錢不高,加上清洗過程不需運用價格較昂貴的有機溶劑,因而它的運轉(zhuǎn)本錢要低于傳統(tǒng)的清洗工藝。6因為不需求對清洗液進(jìn)行運輸,儲存,排放等處理措施,所以出產(chǎn)場地很簡單保持清潔衛(wèi)生。
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如微細(xì)結(jié)構(gòu)電子線路的刻蝕、光致抗蝕膜的清洗、提高尖端部位絕緣層等各種薄膜的覆蓋能力等均可以采用等離子體清洗技術(shù)。雖然它應(yīng)用到生產(chǎn)實踐中的時間還不長,但已證明它確實具有實用性強、可靠性好、經(jīng)濟性佳及無公害性的優(yōu)點。。
在直流電壓的作用下,正負(fù)電暈均在尖端電極附近積聚空間電荷。在負(fù)電暈中,當(dāng)電子引起碰撞電離時,它們被驅(qū)離尖端電極并形成負(fù)離子,而正離子積聚在電極表面附近。隨著電場繼續(xù)增強,正離子被吸引到電極和脈沖電暈電流出現(xiàn),而負(fù)離子擴散到間隙空間。然后重復(fù)電離和帶電粒子的過程。這種循環(huán)使許多電暈電流脈沖出現(xiàn)。電暈放電可以在大氣壓下工作,但需要足夠高的電壓來增加電暈處的電場。
等離子清洗機的RIE和ICP蝕刻可以更有效地控制側(cè)壁沉積物的形成,不同材料之間的蝕刻選擇性對于圖案轉(zhuǎn)移的準(zhǔn)確性和蝕刻形狀的控制很重要。等離子清洗機通常使用鹵素氣體(主要是BR、CL、F氣體)進(jìn)行金屬蝕刻。當(dāng)應(yīng)用于圖案化磁存儲器時,副作用是由于殘留的非易失性蝕刻導(dǎo)致的金屬腐蝕問題??涛g磁存儲核心單元的超薄單層時,性能更顯著。蝕刻副產(chǎn)物可被 350°C 以上的高溫激活,但相關(guān)的磁性能也顯著降低。
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