接下來分析了電暈清洗在ITO領(lǐng)域的應(yīng)用特點(diǎn)。氧化銦錫(ITO)是一種重要的透明半導(dǎo)體材料。一方面，電暈處理的機(jī)理它具有穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)，良好的透光性和導(dǎo)電性，因此在光電工業(yè)中得到廣泛的應(yīng)用。ITO在沉積過程中形成高度簡單的n型半導(dǎo)體。在Sn摻雜情況下，費(fèi)米能級(jí)Er在導(dǎo)帶底EC以上，載流子濃度高，電阻率低。此外，ITO具有較寬的光學(xué)帶隙，因此可見光和近紅外光的透過率更高。

為了提高玻璃面板的強(qiáng)度和硬度，電暈處理的機(jī)理通常采用化學(xué)鋼化處理，化學(xué)鋼化前需要清洗。如果清洗不好，會(huì)影響強(qiáng)化效果。傳統(tǒng)的清洗方法是先用洗滌劑擦洗，再用酸液、堿液、有機(jī)溶劑進(jìn)行超聲波清洗，操作復(fù)雜，費(fèi)時(shí)費(fèi)力，容易造成污染。常壓低溫電暈是近年來各種氣體輝光放電產(chǎn)生的一種冷電暈，具有擊穿電壓低、離子和亞穩(wěn)分子濃度高、電子溫度高、中性分子溫度低等優(yōu)點(diǎn)，電暈處理區(qū)域均勻，可控性好，不需要真空，可連續(xù)進(jìn)行表面清洗。

電暈清洗還具有以下特點(diǎn)：易于采用數(shù)控技術(shù)，電暈處理的機(jī)理自動(dòng)化程度高；采用高精度控制裝置，時(shí)間控制精度很高；正確的電暈清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，確保清洗面不受二次污染。。電暈的關(guān)鍵是低溫電暈的應(yīng)用，低溫電暈的應(yīng)用主要取決于高溫、高頻、高能量等外界條件。它是一種電中性的、高能的、完全或部分電離的氣態(tài)物質(zhì)。

高能離子凈化系統(tǒng)在歐洲主要應(yīng)用于醫(yī)院、辦公樓、公共大廳等，一種高阻隔共擠膜電暈處理裝置近年來逐漸發(fā)展應(yīng)用于污水處理。荷蘭、瑞典等國都有不少例子。電暈中有機(jī)物的降解機(jī)理主要包括以下過程：（1）在高能電子作用下，產(chǎn)生強(qiáng)氧化自由基·O、·OH和·HO2。（2）。有機(jī)分子被高能電子激發(fā)，原子鍵裂開形成基團(tuán)和原子的小碎片。

電暈處理的機(jī)理

電暈由電子、離子、自由基、光子和其他中性粒子組成。由于電暈中電子、離子、自由基等活性粒子的存在，容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)。電暈的清洗機(jī)理主要依靠電暈中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。就反應(yīng)機(jī)理而言，電暈清洗通常包括以下過程：無機(jī)氣體被激發(fā)成電暈態(tài)；氣相物質(zhì)吸附在固體表面；吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)形成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子分解形成氣相；反應(yīng)殘留物從表面除去。

據(jù)了解，自20世紀(jì)90年代以來，國外對(duì)放電電暈的技能和使用的研究發(fā)展迅速，對(duì)放電電暈機(jī)理和特性的研究與使用的工業(yè)聯(lián)系日益緊密。“國內(nèi)研究起步較晚，大氣壓放電電暈的科技開發(fā)與產(chǎn)業(yè)布局相分離，限制了這項(xiàng)綠色節(jié)能無污染技能的廣泛使用?！敝袊姽ぜ寄軐W(xué)會(huì)副秘書長奚大華表示，針對(duì)這一情況，現(xiàn)在很多科研單位都在就此問題進(jìn)行聯(lián)合研討?！?。

電暈采用數(shù)控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；采用高精度控制裝置，時(shí)間控制精度很高；正確的電暈清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；不污染環(huán)境，確保清潔后的表面不受二次污染。隨著電子信息產(chǎn)業(yè)，特別是通信產(chǎn)品、計(jì)算機(jī)及元器件、半導(dǎo)體、液晶和光電子產(chǎn)品的發(fā)展，超精密工業(yè)清洗設(shè)備和高附加值設(shè)備的比重逐步提高。電暈設(shè)備已成為它是許多電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)設(shè)備。

電暈清洗還具有以下特點(diǎn)：易于采用數(shù)控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；采用高精度控制裝置，時(shí)間控制精度很高；正確的電暈清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，確保清洗面不受二次污染。。

一種高阻隔共擠膜電暈處理裝置

與其它電暈清洗裝置相比，電暈處理的機(jī)理該裝置的優(yōu)點(diǎn)是放電非常穩(wěn)定。當(dāng)玻璃在其上方或在其上方運(yùn)動(dòng)時(shí)，電暈對(duì)玻璃表面進(jìn)行有效轟擊，從而達(dá)到在線清洗的目的。與其它電暈清洗裝置相比，該裝置具有放電非常穩(wěn)定，適用于連續(xù)生產(chǎn)場合的優(yōu)點(diǎn)；排放區(qū)域限定在一定方向，不會(huì)產(chǎn)生二次污染；放電相當(dāng)均勻，有利于大面積基片的在線均勻清洗。