但不能去除碳和其他非揮發(fā)性金屬或金屬氧化物雜質。光刻膠的去除過程中常采用等離子體清洗。在等離子體反應體系中引入少量氧氣，電暈處理影響薄膜熱封在強電場作用下，氧氣產(chǎn)生等離子體，使光刻膠迅速氧化為揮發(fā)性氣體狀態(tài)，抽走物質。該清洗技術操作方便，效率高，表面清潔，無劃痕，有利于保證產(chǎn)品質量。而且它不需要酸、堿和有機溶劑，因此越來越受到人們的重視。。

通常情況下，電暈處理影響薄膜熱封物質以固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在某些特殊情況下，還存在第四種狀態(tài)，比如地球大氣中電離層中的物質。處于等離子體狀態(tài)的物質有以下幾種：高速運動的電子；處于激發(fā)（活性）狀態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應的分子、原子等，但物質作為一個整體保持電中性。等離子體清洗機的機理主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。

處于等離子體狀態(tài)的物質有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應的分子、原子等，電暈處理影響薄膜熱封但物質作為一個整體保持電中性。在真空室內通過射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無序等離子體，用等體子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，達到清洗的目的。

因此，電暈處理影響薄膜熱封等離子體表面改性技術已成為新材料科學的前沿領域。碳纖維復合材料以其優(yōu)異的性能受到越來越多的關注。但復合材料的層間性能容易受到破壞，等離子體的出現(xiàn)可以很好地解決這一問題。等離子體表面處理在有機材料中的應用1.1表面接觸角和表面能的變化物體表面的接觸角越小，其潤濕性越好。潤濕是粘附的必要條件。等離子體處理后，由于引入大量含氧基團，表面潤濕性明顯提高，有利于表面附著力的增強。

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然而，在能量范圍很寬的等離子體中，電子的激發(fā)或電離不是選擇性的。在等離子體系統(tǒng)中，許多種類的活性粒子會引起許多反響，而在反響的過程中，操縱特別重要和決定性的粒子幾乎是不可能的。在等離子體環(huán)境中，高能粒子可以打破分子的共價鍵。電子能量色散函數(shù)尾部的高能電子和非平衡等離子體中強局域電場的參與，很可能完成新的化學反應。等離子體環(huán)境有利于許多化學反應。

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