等離子清洗機使用的氣體，工藝參考配方：常用氧氣+氬氣，根據清洗材質的不同，可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體，不同類型的氣體在清洗過程中的反應機理是不同的，活潑氣體的等離子體具有更強的化學反應活性，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。
氧氣（Oxygen,O2）：清洗方式：物理+化學
氮氣（Nitrogen,N2）：清洗方式：物理+化學
二氧化碳（Carbon,CO2）：清洗方式：物理+化學
氬氣（Argon,Ar）：清洗方式：物理
壓縮空氣（Compressed Air,CDA）：清洗方式：物理+化學
使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內即可完成，因此具有產率高的特點；
容易采用數控技術，自動化程度高;具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高;
正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層，表面質量得到保證;由于是在真空中進行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。
等離子處理過程為一種干制程，相對于濕制程來說，其具有諸多的優(yōu)勢，這是等離子體本身特征所決定了。由高壓電離出的總體顯電中性的等離子體具有很高的活性，能夠與材料表面原子進行不斷的反應， 使表面物質不斷激發(fā)成氣態(tài)物質揮發(fā)出去，達到清洗的目的。其在材料表面處理過程中具有很好的實用性，是一種干凈、環(huán)保、高效的清洗方法。
